設(shè)備用途：

　　廣泛應(yīng)用于大型模具、手機(jī)面板、手機(jī)外殼、各種LOGO、大型玻璃、導(dǎo)光板，陶瓷板、閥片、五金零部件等平面拋光。

　　設(shè)備原理：

　　1、本研磨為精密拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于拋光盤上，拋光盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速可控，加壓氣缸對工件施壓或砝碼加壓，工件與拋光盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到拋光目的。

　　2、此設(shè)備配合高精密平面拋光機(jī)使拋光盤平整度達(dá)到±0.003mm，確保高精密零部件加工的穩(wěn)定性，大大節(jié)省時(shí)間。

　　設(shè)備特點(diǎn)：

　　1、系列拋光機(jī)工件加壓采用氣缸加壓或砝碼加壓的方式，壓力可調(diào);

　　2、系列拋光機(jī)采用按鈕控制或PLC程控，速度可調(diào)，操作方便。

　　3、研磨拋光機(jī)采用自動滴液系統(tǒng)，滴液速度可調(diào)，流速均勻，方便控制成本。

　　設(shè)備規(guī)格：